GQQ5(A)礦用本質(zhì)**型煙霧傳感器電容式MEMS加速度計(jì)的工藝一般包括：表面工藝尸饵、體硅工藝奕截、Liga工藝和SOI+drie工藝致殉。對(duì)這些過程進(jìn)行了比較就肪。表面技術(shù)是在集成電路平面技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種微技術(shù)遗渊，它只進(jìn)行單面光刻成黄。它利用不同材料在硅平面上的順序沉積和選擇性腐蝕來形成各種微結(jié)構(gòu)休弃。主要包括犧牲層沉積装诡、犧牲層刻蝕银受、結(jié)構(gòu)層沉積、結(jié)構(gòu)層刻蝕鸦采、犧牲層去除（釋放結(jié)構(gòu)）等宾巍。將結(jié)構(gòu)材料懸浮在基板上，形成各種形狀的二維或三維結(jié)構(gòu)蜗南。

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